在市场销售的各种残余气体分析仪中,基于四极杆质量分析器的RGA普遍要求工作压力低于E-4Torr,以830/835VQM为代表的离子阱RGA要求工作压力低于E-5Torr。这意味着在高于此压力的工况下,这些残余气体分析仪需要使用额外的分子泵组进行differential pumping
为实现PVD、CVD、等离子清洗、半导体蚀刻等工艺环境下残余气体分析仪的直接应用,MKS、Inficon等公司开发了一系列高压残余气体分析仪(HPQ系列、XPR系列)。此类RGA可以在E-2Torr的压力下稳定工作,且可以直接与PVD的工艺腔连接而无需差速系统。
通常情况下,四极杆的杆长L影响着四极杆的分辨能力。四极杆长增加,使离子在四极场经历足够多的高频周期数得到充分分离,从而可提高分辦本领。同时也要求进入四极杆的离子在z轴方向具有足够高的初始动能得以飞出四极杆被collector收集。当工作压力升高时,离子和中性气体分子之间会发生更频繁的碰撞,离子的动能被损失,在xy平面上的振幅变小,分辨本领显著降低,甚至无法飞出四极杆,且检测高质量离子时会出现RF放电,从而使仪器无法正常工作。
高压残余气体分析仪采用杆长不足20mm的微型四极杆作为质量分析器,牺牲一定的质量范围和分辨能力,以允许分析器得以在E-2Torr的高压力下稳定工作,实现PVD等工艺下的无差速系统在线气体质量分析。
本文笔者以MKS HPQ3的analyzer为例进行拆解,HPQ3基于EI离子源、微型四极杆质量分析器和Faraday cup检测器,固有emiss. current 0.7mA,质量范围1-100amu,一般工作压力E-3Torr。HPQx的质量分析器体积不足手掌大,比大多数有源真空计更小且更紧凑。
拆除灯丝组件连接器
取下灯丝组件,该灯丝组件包含两根涂氧化钇的铱灯丝,工作温度相对于钨灯丝更低,可有效延长高压力环境使用的寿命
拆除离子源固定螺栓
取下推斥极,推斥极上加负电压,将灯丝发射的热电子推向轴心与中性气体分子碰撞电离
阳极cage露出,笼上加正电压
取下阳极盘绝缘垫片
拆除阳极cage
取下提取极绝缘垫片和支撑
拆除提取极,提取极加负电压用于引出碰撞电离出的正离子
拆除离子源固定盘,盘中心的小孔用于引出正离子
EI离子源组件完全拆除,工作原理参考下图
移除离子源组件后,四极杆组件露出
拆除四极杆固定盘螺栓
取下四极杆固定盘
取出四极杆及陶瓷固定支架、RF电极
拆下四极杆支座螺栓
取出四极杆支座
拆除与feedthrough连接的法拉第杯
拆解完成,HPQ3分析器共分为EI离子源、微型四极杆质量分析器、法拉第杯离子检测器三部分,结构简单紧凑,维护方便。
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