电子工业制造IC芯片的工艺用纯水，要求电阻率达到16~18MΩ·cm（25℃下理想纯水的理论电阻率为18.3MΩ·cm），100mL里只允许有1个活细菌（1987年的标准）。
工业大规模制造纯水通常的处理流程：
沙、活性炭预处理——>RO（反渗透膜）过滤——>离子交换复合床——>离子交换混合床——>UF（超滤膜）过滤——>UV杀菌
实验室少量制备超纯水一般采用多次蒸馏水或者去离子水最后经过全石英容器亚沸点蒸馏一次获得。
[align=right][color=#000066][此贴子已经被作者于2007-6-18 21:56:14编辑过][/color][/align]| 时段 | 个数 |
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